哈美頓 PHI ARC 225（EasyFerm Plus/Bio 系列）以 PHI 低阻球形玻璃膜、預(yù)加壓 Everef?F 參比與 Arc 數(shù)字技術(shù)為核心，實(shí)現(xiàn) pH 0?14 全量程≤10 秒快速響應(yīng)，通過(guò)多重抗干擾設(shè)計(jì)保障 ±0.01pH 級(jí)精度，適配 CIP/SIP 與發(fā)酵等高潔凈場(chǎng)景。
響應(yīng)速度的本質(zhì)是玻璃膜電位平衡速率與參比系統(tǒng)穩(wěn)定性的綜合體現(xiàn)，以下為關(guān)鍵指標(biāo)與保障細(xì)節(jié)：
核心機(jī)制：電極采用復(fù)合結(jié)構(gòu)，敏感膜與參比系統(tǒng)集成，預(yù)加壓設(shè)計(jì)使電解質(zhì)持續(xù)微量滲出，確保隔膜無(wú)阻塞，H?快速達(dá)到膜?液界面平衡，配合球形膜增大接觸面積，大幅縮短響應(yīng)時(shí)間。
電極通過(guò) “材料?結(jié)構(gòu)?電路?軟件" 四層設(shè)計(jì)，抵御常見(jiàn)干擾源，以下為關(guān)鍵技術(shù)與效果：
參比系統(tǒng)抗污染 / 漂移
玻璃膜抗老化 / 腐蝕
電氣與環(huán)境抗干擾
軟件與校準(zhǔn)抗漂移
Arc 智能芯片存儲(chǔ)校準(zhǔn)曲線與傳感器 ID，支持兩點(diǎn) / 三點(diǎn)校準(zhǔn)（pH 4.01/7.00/10.01），自動(dòng)修正斜率與零點(diǎn)；內(nèi)置診斷功能（如隔膜阻抗監(jiān)測(cè)），提前預(yù)警性能衰減。
支持離線校準(zhǔn)與在線驗(yàn)證，減少工藝中斷，維持長(zhǎng)期測(cè)量一致性。
發(fā)酵罐應(yīng)用：培養(yǎng)基切換（如補(bǔ)料后 pH 突變）時(shí)，10 秒內(nèi)穩(wěn)定讀數(shù)，預(yù)加壓參比抵御高粘度培養(yǎng)基導(dǎo)致的隔膜阻塞，Arc 數(shù)字輸出避免信號(hào)衰減。
CIP/SIP 后：滅菌后無(wú)需重新校準(zhǔn)，PHI 玻璃膜快速恢復(fù)響應(yīng)，銀離子阻擋層防止清洗液腐蝕參比系統(tǒng)，保障批次間數(shù)據(jù)一致。
低電導(dǎo)樣品（如注射用水）：Arc 電路優(yōu)化高阻信號(hào)采集，配合預(yù)加壓電解質(zhì)，讀數(shù)波動(dòng)≤±0.01pH，優(yōu)于傳統(tǒng)模擬電極。
安裝與維護(hù)：采用 PG13.5 衛(wèi)生接頭，避免死體積；建議每 3 個(gè)月檢查隔膜清潔度，CIP 后用去離子水沖洗，防止殘留清洗劑影響響應(yīng)。
校準(zhǔn)策略：新電極校準(zhǔn)用三點(diǎn)法，日常維護(hù)用兩點(diǎn)法（pH 7.00+4.01 或 10.01），SIP 后重新驗(yàn)證零點(diǎn)，確保響應(yīng)與精度穩(wěn)定。
信號(hào)傳輸：優(yōu)先使用 Modbus 數(shù)字輸出，減少長(zhǎng)距離傳輸中的噪聲干擾，提升響應(yīng)實(shí)時(shí)性。
PHI ARC 225 通過(guò)低阻玻璃膜、預(yù)加壓參比與 Arc 數(shù)字技術(shù)的協(xié)同，實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)與強(qiáng)抗干擾的平衡，是生物制藥、食品飲料等對(duì)潔凈度與穩(wěn)定性要求嚴(yán)苛場(chǎng)景的優(yōu)選電極。
掃碼關(guān)注
